欢迎访问扬州欣达电子有限公司网站! 关于我们 联系我们

专注于薄膜开关,薄膜面板等研发与生产

安全省心,有效控制成本

img

咨询热线:

0514-86859177

img

咨询热线:

13805251384

您的位置:首页 > 新闻资讯 > 技术文章
PRODUCT CENTER
产品中心
行业资讯
企业动态
技术文章
咨询热线

0514-86859177

技术文章

薄膜的形成与生长

   薄膜的形成与生长过程大体可分为外来原子在基底(或称为基片、基板或衬底)上的凝结、扩散、成核、晶核生长、原子或粒子团的接合及连接成膜等阶段。薄膜的形成与生长过程不仅与薄膜材料和基底材料有关,还受原子和离子的状态及能量、沉积速率、基底温度、杂质等多种因素的影响。薄膜的生长过程将决定薄膜的微观组织与结构,而薄膜的微观组织与结构直接决定薄膜的物理化学性能。因此,在讨论薄膜结构和性能之前,先研究薄膜的形成与生长是十分必要的。虽然薄膜的制备方法多种多样,薄膜形成的机理各不相同。但在许多方面,不同的制膜方法和薄膜的形成与生长过程仍具有许多相同的特点。在本章中,我们主要以真空制膜为例进行讨论。